本镀膜设备是在优质浮法玻璃上采用真空磁控溅射技术，孪生阴极，中频溅射技术，
并配以国际先进的控制系统，镀制S0 2／I T0膜层，生产过程全部自动，连续进行。
　　主要组成部分：
    真空室：不锈钢制造，立式，外壁通冷却水，内衬不锈钢挡板。
    真空系统：可选扩散泵系统，蜗轮分子泵系统。
    蒸发源：直流磁控溅靶和，中频磁控溅射靶，分别固定在真空室两例。
    工件烘烤：采用不锈钢管状加热器配合均热板，确保基片加热均匀性。
    充气系统：气体质量流量计和压强自动控制仪。
    电气控制系统：触膜屏与P L C自动控制，人机对话方式来实现系统的数据显示；操作
与控制。
    水冷系统：真空室冷却和阴极冷却，有水压保护开关和水流开关。

　　主要技术参数：

极限真空压力：7×1 0^-4 Pa
平均生产周期：1 0 0秒／架
基片导尺寸：7 5 0×1 2 0 0(mm)
总功率：3 5 0 kw
直流磁控靶功率：20kw
中频磁控靶功率：20kw