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产品名称: 墙幕玻璃磁控溅射镀膜设备
  本公司生产的墙幕玻璃磁控溅射镀膜机,采用平面磁控溅射靶,可以在大平板浮法玻璃上镀制金属单质膜、复合膜、L E辐射膜,也可在小弯的弧形玻璃上镀膜。
    o最大可镀玻璃尺寸:2440×330 0(毫米)
    o多真空室,多溅射室结构,可供用户选择,真空室之间有真空锁隔离。
    o卧式磁控生产线有单端、双端形式,玻璃从清洗、镀膜、检测等一次完成。
    o生产线采用PLC全过程控制,并配有彩色显示屏,显示镀膜工艺过程参数。

墙幕玻璃磁控溅射镀膜设备主要技术参数
型号 JP-2000 JP-2500 JP-3300 JP-2000 JP-2500 JP-2500
可镀玻璃最大尺寸 1500X2000 1880X2440 2440X3300 1500X2000 1880X2440 2440X3300
生产节拍(分钟/片) 3 3 3 3 3 3
极限压力(Pa) 2X10-3 2X10-3 2X10-3 2X10-3 2X10-3 2X10-3
靶数量(个) 3 3 33 3 3 3
溅射功率(KW) 80X3 80X3 100X3 80X3 80X3 100X3
装机功率(KW) 300 380 420 200 260 280
真空室数量(个) 9 9 9 4 4 4
其中溅射室数量(个) 3 3 3 3 3 3
控制方式 PCL PCL PCL PCL PCL PCL
备注 水平式双端 水平式单端


 
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